As emissões de um gás do efeito estufa, com capacidade 17 mil vezes superior ao dióxido de carbono em aquecer o planeta, estão pelo menos quatro vezes mais elevadas que o estimado. O trifluoreto de nitrogênio é usado principalmente pela indústria de semicondutores para limpar as câmaras em que se são produzidos os chips de silício. No passado, a indústria estimava que a maior parte do gás era utilizada durante o processo de limpeza e somente cerca de 2% escapavam para o ar. Mas as primeiras medidas feitas dos níveis de NF3 na atmosfera, publicadas recentemente no Geophysical Research Letters, mostram que as emissões chegam a 16%. Esses resultados podem não ter repercussões imediatas, atualmente o NF3 contribui com 0,04% para o efeito do aquecimento global gerado pelo dióxido de carbono emitido por fontes como termelétricas à base de carvão e veículos. Entretanto, à medida que aparelhos de TVs LCD se tornam mais comuns em todo o mundo e a emergente indústria de células solares fotovoltaicas se desenvolve, quantidade cada vez maiores desse gás são geradas, pois o NF3 é utilizado na limpeza dos dois produtos. Apesar dos efeitos potenciais o gás não é controlado e não se exige das empresas de eletrônicos a manutenção de um histórico da quantidade utilizada ou emitida.
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